中微半导体硬核突破!12英寸刻蚀设备问世,美光涨价或吹响行业复苏号角
2025-03-28
中微公司发布自主研发的12英寸晶圆边缘刻蚀设备Primo Halona,采用双反应台设计,可灵活配置反应腔并提升生产效率,设备搭载抗腐蚀材料和智能量测模块,增强稳定性和维护效率。2024年营收约90.65亿元,同比增长44.73%,其中刻蚀设备收入增长54.73%。同期美光宣布存储芯片涨价10%-15%,或反映半导体行业需求回暖。


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